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头条焦点:国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例 适应大规模集成电路发展需要


【资料图】

据中国网,国家知识产权局局长申长雨在新闻发布会上表示,将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。其中,修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要,助力芯片产业做大做强,服务数字经济更好发展。强大数据、人工智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研究,助力相关领域创新发展。同时,积极参与知识产权国际规则制定,更好对接高标准国际经贸规则,助力高水平对外开放。

来源: 同花顺7x24快讯

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